氧化钢锡（ ITO ）透明导电膜的成分是氧化锢中掺锡（In2O3:Sn)，它具有非常优良的性能：高导电率、高可见光透射率、高红外反射率、机械和化学性能稳定以及用湿法刻蚀很容易形成电极图形等。
      锡掺杂的氧化锢是一种体心立方铁锰矿结构的 n 型半导体透明导电薄膜，具有以下特性：①导电性能好（电阻率可低达10~4Ω· cm )，带隙（3.5~4.3eV)，载流子浓度（1021 cm 3）和电子迁移率（15~45cm2/( V · s )）较高；②在可见光波段透过率高，可达85％以上；③对紫外线的吸收率较高，可达85％以上；④对红外线具有反射性，反射率高于80%;⑤对微波具有衰减性，衰减率可达85％以上；⑥膜层硬度高，耐磨，耐化学腐蚀（氢氟酸等除外）;⑦膜层具有很好的酸刻、光刻性能，便于细微加工，可以被刻蚀成不同的电极图案。由于具有上述优良特性， ITO 薄膜被广泛用于平面显示、电致变色（ EC ）窗、太阳能电池透明电极、微波屏蔽和防护镜、交通工具的风挡玻璃等。 ITO 薄膜一般具有大于可见光子能量（3.1eV）的光学禁带宽度，可见光照射不能引起本征激发，所以它对可见光透明。
       ITO 薄膜因其优良的性能而成为研究和应用的热点，并逐步完善了其制备工艺，形成了产业化生产，得到了广泛的应用。在某种程度上 ITO 已成为透明导电氧化物薄膜的代名词。目前，市场上使用的透明导电氧化物薄膜的技术是成熟的，但由于 In 、 Sn 等材料自然储量少、制备工艺复杂、成本高、有毒、稳定性差，因此限制了它的广泛使用。